APC/R2R
先进制程管理系统
产品概览
APC应运而生
针对半导体产业关键尺寸不断缩小、集成度不断提高及晶原尺寸不断扩大的产业现况
改善与加强
产品良率、Rework 次数以及有效产能
制程品质和产能间达到“双赢”
智能工具与丰富应用场景
功能特点
01降低pilot wafer用量
借由准确feedback，可以在最短时间内使输出值接近目标值，可以大幅减少 pilot wafer 的使用
02改善产品Cpk
APC可以使产品有效控制在目标值附近，保证产品质量
03减少OOS发生率
将可能影响因子完整考量到算法中，能有效降低outliner的发生
04减少MO发生率
经由完整系统运作，可以大幅减少需要人员操作的机会，并加上系统中对于补偿值的卡控从而减少MO的发生
优势效果
虚拟量测
设备健康度监控
图像缺陷诊断
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